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日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備

簡要描述:
日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備
帶 RF 電源的小型高頻濺射設(shè)備。
由于具有金屬、半導(dǎo)體和絕緣體的沉積能力,因此非常適合基礎(chǔ)研究和開發(fā)實驗。

更新時間:2025-06-30

訪問量:38

廠商性質(zhì):經(jīng)銷商

型號:VTR-151M

品牌ULVAC/日本愛發(fā)科產(chǎn)地類別進口
應(yīng)用領(lǐng)域環(huán)保,化工,電子/電池,綜合

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備


特征

它是絕緣體、金屬和半導(dǎo)體材料的濺射系統(tǒng)。

渦輪分子泵用于主泵送。

直徑為 2 英寸,3 個陰極可進行多次沉積。

磁控濺射可實現(xiàn)濺射速度 30nm/min (SiO2)。

它具有基板加熱系統(tǒng)(350°C)。

規(guī)范

VTR-151M/SRF (SCOTT-C3)
真空性能極限壓力6,6×10-4帕
疏散時間6,6×10-3帕/5分鐘
真空室真空室金屬腔室 (直徑 310.5mm × 160mm (H))
陰極直徑 2 英寸,3 路
標準目標直徑 2 英寸(直徑 50.8 毫米)× T1mm ×T1 毫米
濺射有效面積25 毫米
濺射速度SiO2 SiO2,沉積時超過 30nm/min
膜厚分布SiO2 SiO2,直徑 25mm 時 ±10% 以內(nèi)
基板加熱溫度最高 350°C
最高 350 攝氏度50mm ~ 90mm (可變:半固定)
排氣系統(tǒng)主泵渦輪分子泵 250 L/sec
液氮捕集阱
副泵油旋轉(zhuǎn)泵200L/min
油霧捕集器油霧捕集器 OMT-200A
作系統(tǒng)主閥蝶閥
副閥三通閥
自動泄漏閥選擇
控制手動控制
控制系統(tǒng)射頻電源最大 300W (0~300W 可變)
皮拉尼真空計GP-1GRY 系列
電離真空計編號:ISG1/SH2-1
設(shè)置外部尺寸1081 毫米(寬)×853 毫米(深)×1104 毫米(高)
重量400 公斤





效用

VTR-151M/SRF (SCOTT-C3)
所需功率200V 單相 50/60Hz 3.5kVA
接地端子A 級(接地電阻/10Ω以下)
需水量2.0 L/min(水溫 : 25°C以下、水壓 : 200kPa(表壓))
連接(電源)乙烯基電纜(帶 R3.5-5 環(huán)形舌片端子)4m
連接(接地)接地線(帶 R5.5-8 環(huán)形舌片端子) 4m
連接(水管)Tetoron 編織軟管 (外徑 15mm × 內(nèi)徑 9mm) 4m (2 列)






尺寸圖

日本ULVAC愛發(fā)科小型高頻濺射設(shè)備



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